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    什么是SiCf/SiC復(fù)合材料[ 08-30 16:24 ]
    SiCf/SiC陶瓷基復(fù)合材料是指在SiC陶瓷基體中引入SiC纖維作為增強材料,形成以引入的SiC增強纖維為分散相,以SiC陶瓷基體為連續(xù)相的復(fù)合材料。SiCf/SiC陶瓷基復(fù)合材料保留了SiC陶瓷耐高溫、高強度、抗氧化、耐腐蝕、耐沖擊的優(yōu)點,同時兼具SiC纖維增強增韌作用,克服了SiC陶瓷斷裂韌性低和抗外部沖擊載荷性能差的先天缺陷。SiCf/SiC復(fù)合材料作為一種綜合性能優(yōu)異的高溫?zé)峤Y(jié)構(gòu)材料,在航空、航天、核能、汽車等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景,成為目前各個西方國家的研究熱點。
    C/SiC陶瓷基復(fù)合材料應(yīng)用[ 08-29 17:21 ]
    碳纖維不僅具有密度低、比強度高、耐磨、耐腐蝕、導(dǎo)電、導(dǎo)熱、摩擦系數(shù)低等特性,而且還具備十分優(yōu)異的高溫力學(xué)性能,其在惰性氣氛、2000℃以上環(huán)境中,力學(xué)性能仍然不下降。但其高溫抗氧化性較差,因此通常與金屬、陶瓷、樹脂等復(fù)合,制備應(yīng)用于航空航天、軍事工業(yè)等尖端技術(shù)領(lǐng)域的先進(jìn)復(fù)合材料。 在熱結(jié)構(gòu)陶瓷基復(fù)合材料領(lǐng)域中,碳化硅以其優(yōu)異的高溫力學(xué)性能(強度、抗氧化性、抗蠕變性等)、低的熱膨脹系數(shù)和摩擦系數(shù)、優(yōu)良的導(dǎo)熱和導(dǎo)電性,成為基體材料的主要候選之一。然而SiC陶瓷的缺點是脆性較大。 C/SiC陶瓷基復(fù)合材料通過
    牛津儀器推出新型SiC外延襯底化學(xué)機械拋光(CMP)解決方案[ 08-27 16:47 ]
    據(jù)粉體圈整理消息:8月22日,牛津儀器(OxfordInstrumentsplc)旗下等離子技術(shù)公司(PlasmaTechnology)推出一種新型SiC外延襯底化學(xué)機械拋光(CMP)的替代解決方案——等離子拋光干法蝕刻(PPDE),它不僅更清潔、環(huán)保、低成本,并且更穩(wěn)定。 CMP多年來一直是SiC襯底制備的最好選擇,但它存在不良率的頑疾,這在當(dāng)前滿足SiC需求增長十分不利。首先,CMP漿料存在一定毒性,晶圓廠的CMP流程會對環(huán)境造成很大影響,并且大量消耗水資源;其次,CMP所須的拋光
    晶盛機電成功研發(fā)出8英寸N型SiC晶體[ 08-26 17:05 ]
    8月12日消息,經(jīng)過晶體實驗室研發(fā)團(tuán)隊半年多的技術(shù)攻關(guān),晶盛首顆8英寸N型SiC晶體成功出爐,標(biāo)志著晶盛第三代半導(dǎo)體材料SiC研發(fā)自此邁入8英寸時代,同時這也是晶盛在寬禁帶半導(dǎo)體領(lǐng)域取得的又一標(biāo)志性成果。 據(jù)了解,此次研發(fā)成功的8英寸SiC晶體,晶坯厚度25mm,直徑214mm,是晶盛在大尺寸SiC晶體研發(fā)上取得的重大突破。 在技術(shù)上,晶盛成功解決了8英寸晶體生長過程中多個難點問題,比如溫場不均、晶體開裂、氣相原料分布等等。 此外,還破解了SiC器件成本中襯底占比過高的難題,為大尺寸SiC襯底廣泛
    哈爾濱科友半導(dǎo)體6英寸碳化硅襯底正式投產(chǎn)[ 08-25 11:37 ]
    據(jù)粉體圈消息:8月18日,位于哈爾濱新區(qū),投資10億元建設(shè)的科友第三代半導(dǎo)體產(chǎn)學(xué)研聚集區(qū)項目一期正式投產(chǎn),預(yù)計年底全部達(dá)產(chǎn)后可形成年產(chǎn)能10萬片6英寸碳化硅襯底的生產(chǎn)能力。 據(jù)悉,哈爾濱科友半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)裝備與技術(shù)研究院有限公司(科友半導(dǎo)體)成立于2018年,是一家專注于第三代半導(dǎo)體裝備研發(fā)、襯底制造、器件設(shè)計、技術(shù)轉(zhuǎn)移和科研成果轉(zhuǎn)化的國家級高新技術(shù)企業(yè)。去年7月,科友半導(dǎo)體產(chǎn)學(xué)研聚集區(qū)項目正式開工建設(shè)。主要建設(shè)中俄第三代半導(dǎo)體研究院、中外聯(lián)合技術(shù)創(chuàng)新中心、科友半導(dǎo)體襯底制備中心、科友半導(dǎo)體高端裝備制造中心、國際
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