研究所發(fā)現(xiàn)碳化硅晶體的新效應(yīng)
碳化硅是一種重要的寬禁帶半導(dǎo)體材料,由于其具有高的熱導(dǎo)率、大的飽和電子漂移速率及搞得擊穿場強(qiáng),從而被廣泛應(yīng)用于制備高溫、高頻及大功率電子器件。4H碳化硅點(diǎn)群為6mm,理論上存在二階非線性光學(xué)效應(yīng)。同事碳化硅優(yōu)異的物理性質(zhì),如寬的帶隙、高的熱導(dǎo)率及強(qiáng)的共價鍵能等有利于提高其抗激光損傷能力,其損傷閥值可達(dá)80GW/cm²,然而,目前國際上還沒有碳化硅晶體非線性光學(xué)頻率變換的實(shí)驗(yàn)報(bào)道。
研究所告知中紅外段激光在分子光譜、氣體探測、環(huán)境保護(hù)、醫(yī)學(xué)、激光通訊、紅外遙感及光電對抗等領(lǐng)域具有重要的應(yīng)用,非線性光學(xué)頻率變換是目前獲得中紅外激光的有效途徑。常用的中紅外非線性光學(xué)晶體受到低激光損傷閥值的新型中紅外非線性光學(xué)材料是當(dāng)前中紅外激光研究領(lǐng)域的前沿和特點(diǎn)。
碳化硅微粉及碳化硅粒度砂是碳化硅特性的主要組成,碳化硅的用途廣泛,現(xiàn)在已經(jīng)很多企業(yè)生產(chǎn)廠家都在使用碳化硅在生產(chǎn)自己的制品,可見碳化硅的發(fā)展步伐是很光明的。
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